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近日，富士因在感光器硅电路表面采用有机（碳化学基）材料的研究被授予一项专利。有人猜测这项在富士公司2009年发表的一篇技术文章中提到的技术，会被运用到富士将要推出的无反光镜相机当中。不过，根据传感器专家Eric Fossum教授的说法，虽然这项技术十分有趣，但其相对于现有设计而言可能并不能提供压倒性的优势。但是，Fossum和富士公司都说这项技术对小传感器更有作用。

富士 Fujifilm 标志

不同之处

富士的传感器不同于现有的CMOS和CCD，它不使用硅光电管进行光电转换，而是使用一种光电有机涂层使光转换成电子。然后，这些由有机涂层转化得来的电子，会被在涂层之下的CMOS电路“读取”。富士的内部文档声称，这项技术有如下优点：1、镀层可以直接被镀涂到整个传感器的表面，使传感器的表面有更好的感光度。这意味着，没有必要引入微棱镜重新引导光线射入特定的感光区域；2、没有必要再将感光层分成独立的像素。富士的团队声称，这两个优点可以是传感器的制造成本更低。同时，有机材料只对可见光敏感的特性，可以避免在感光器前使用红外滤波器（硅传感器对红外光敏感）。

FUJI富士的传感器不同于现有的CMOS和CCD，它不使用硅光电管进行光电转换，而是使用一种光电有机涂层使光转换成电子

应用前景

不过，这项技术的主要目的不在更高像素和更小的像素面积，而是使感光器能够提供较好的性能。正如富士这篇文章的作者所说：“尽管对减小像素做出了无尽努力，CMOS和CCD的光捕捉效率和敏感度在不断的降低”。传感器专家Fossum对这项研究表示赞许，不过也对富士公司许诺的众多优点表示怀疑：“作为一个传感器领域的后来者，我对富士研究部取得的良好的发展进展表示祝贺，并且对此项研究十分感兴趣。如果这篇文章是对富士在2009年的工作进度做的总结，那么，我认为这项技术将会在几年之内进入实用阶段。而如果他们运气足够好的话，或许还会更快。”

“但是，除了减少噪点方面（从报告中所称的38 e-rms减少到5 e-rms），富士还需要解决材料层的大规模生产能力问题。当然，他们在这方面很有经验，因为大部分传感器的RGB滤波器引入了富士的产品。RGB滤波器的层材料也是被动的，并不是电子主动材料。所以，富士多余的产能将十分关键。”

有机材料只对可见光敏感的特性，可以避免在感光器前使用红外滤波器（硅传感器对红外光敏感）

会是重大飞跃么？

富士的这项技术会成为传感器领域的一项重大飞跃么？对此，Eric Fossum有着自己的看法：“分析这项研究成果是否能成为有竞争力的商品，首先要分析，在上述问题解解决后，目前的优势在产品实际推出的时候是否还是优于对手的优势。而他们的技术或许可以在很小的像素尺寸的情况下做到全局快门，不过这项技术已经在小像素尺寸的单硅器件上展示过了。我不相信生产成本会变成这项技术的重大优势，不过，成本优势可能是一个重要的方面。同时，我也不认为相对于传统图像传感器，这项技术在感光度、读取噪声、动态范围等等性能上会有很大的优势。当然，这很难预料。”

“对富士而言，另外一项重要的优势是：这项技术是他们完全自主研发的，拥有完整的知识产权。但另一方面，这意味着不同于CMOS图像传感器行业中，普遍的由一家公司鞭策其他公司前进的半合作状态（当然不是国际合作），富士将成为依靠自己的孤岛，这会使其发展脚步慢于行业中其他的竞争者。”

“当然，我确实非常喜欢高吸收率的光子吸收层这个概念，我认为这种涂层可能是不可见的量子膜。富士有机光子吸收层，或者其他将会被研发出来的新材料，对提高我对每个光电子都被量化的量子图像传感器的认知很有帮助。不过，我对富士的方法的商业化竞争力不持乐观态度。但是，看到新的技术的发明和发展总让我很高兴。”

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